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●全民抗"疫" 終獲勝利 ●

潔凈技術(shù)又稱為生產(chǎn)環(huán)境和污染控制技術(shù)，是近些年隨著高新技術(shù)發(fā)展起來(lái)的一門綜合性的新興科學(xué)技術(shù)。潔凈技術(shù)通常包括：空氣凈化技術(shù)、空調(diào)技術(shù)、水純化技術(shù)、氣體純化技術(shù)、微量雜志控制技術(shù)、潔凈環(huán)境的檢測(cè)技術(shù)及相關(guān)的環(huán)境的控制技術(shù)。凈化工程技術(shù)在電子、核子、航空航天、生物工程、制藥、精密機(jī)械、化工、食品、汽車制造等高科技工業(yè)領(lǐng)域及現(xiàn)代科學(xué)領(lǐng)域中得到廣泛應(yīng)用。

隨著我國(guó)科技水平的提高，人民生活水平也大大提升。人們對(duì)生活質(zhì)量及生活環(huán)境抱有越來(lái)越高的要求，如：空調(diào)凈化系統(tǒng)設(shè)備、水凈化設(shè)備、空氣凈化器等凈化工程技術(shù)已經(jīng)開(kāi)始步入千家萬(wàn)戶，進(jìn)入人們的現(xiàn)代生活。特別在電子行業(yè)發(fā)展中更能體現(xiàn)出科技水平的提升速度，電子逐漸微型化，質(zhì)量化，完美化給我們帶來(lái)了快捷，方便，耐用的時(shí)代。凈化工程技術(shù)在某種意義上已經(jīng)成為衡量國(guó)家和工業(yè)的一個(gè)重要標(biāo)志。

01、發(fā)展

在過(guò)去我國(guó)的潔凈技術(shù)和設(shè)備與國(guó)外先進(jìn)國(guó)家相比差距是明顯的，我國(guó)1965年才開(kāi)始生產(chǎn)的HEPA過(guò)濾器，比國(guó)外了十五年。1975年開(kāi)始生產(chǎn)的光散射塵埃粒子計(jì)數(shù)器比國(guó)外晚了二十年。0.1微米潔凈技術(shù)和設(shè)備在國(guó)際上先進(jìn)國(guó)家已成為成熟技術(shù)，我國(guó)則剛剛起步。

在潔凈室建設(shè)規(guī)模和技術(shù)水平上，我國(guó)與先進(jìn)國(guó)家差距更大。日本清水建設(shè)公司一家，1982年到1987年期間承建的潔凈室面積達(dá)71.8萬(wàn)平方米，而我國(guó)目前一年承建的潔凈室總面積還不到10萬(wàn)平方米，但八五期間有較大發(fā)展，1993年承建潔凈室總面積已接近15萬(wàn)平方米。美國(guó)的潔凈室建設(shè)規(guī)模更大，1998年統(tǒng)計(jì)已達(dá)188.5萬(wàn)平方米。

在潔凈工程技術(shù)水平上，80年代末期，國(guó)外已大量建成0.1微米級(jí)的超凈室，1987年日本三洋新瀉工場(chǎng)建成十級(jí)潔凈廠房3000平方米，NIT原木則建成了四個(gè)1000平方米控制0.1微米塵埃的千級(jí)廠房，換氣次數(shù)高達(dá)300次/分。美國(guó)在臺(tái)灣的TSMCS新廠已建成第四代管道式潔凈室總面積達(dá)10000平方米。

我國(guó)使用的0.1微米十級(jí)潔凈室主要依賴從國(guó)外進(jìn)口。由于高潔凈級(jí)別的潔凈室造價(jià)十分昂貴，0.1微米十級(jí)潔凈室每平方米造價(jià)高達(dá)1萬(wàn)美元以上。在大規(guī)模集成電路制造裝備的投資中潔凈廠房占有相當(dāng)高的比例，這與集成電路工藝不斷更新，產(chǎn)品更新?lián)Q代周期越來(lái)越快的發(fā)展趨勢(shì)不相適應(yīng)，嚴(yán)重制約了大規(guī)模集成電路技術(shù)的發(fā)展。美國(guó)ASYST公司、德國(guó)MW公司發(fā)展的使用隔離技術(shù)的亞微米生產(chǎn)微環(huán)境系統(tǒng)設(shè)備和技術(shù)在近幾年中得到廣泛采用。該項(xiàng)最新的潔凈技術(shù)在100級(jí)潔凈度的潔凈廠房中，采用工藝設(shè)備局部使用隔離技術(shù)的微環(huán)境，把投資比例壓縮到高級(jí)別的微環(huán)境，消除了操作者與工藝設(shè)備運(yùn)行的二次污染源產(chǎn)生對(duì)集成電路成品率和可靠性的影響作用。

據(jù)中國(guó)電子專用設(shè)備工業(yè)協(xié)會(huì)統(tǒng)計(jì)，我國(guó)主要八家最大的凈化設(shè)備廠的銷售額1990年為8217萬(wàn)元，還不足1億，1993年達(dá)到14495萬(wàn)元，占國(guó)際市場(chǎng)銷售額的0.34％。但隨著我國(guó)高新技術(shù)的迅速發(fā)展和微電子工業(yè)、光纖工業(yè)、液晶顯示工業(yè)及光電器件工業(yè)、生物工程、醫(yī)藥工業(yè)的發(fā)展，我國(guó)潛在的巨大的潔凈技術(shù)產(chǎn)品市場(chǎng)，以每年40％~50％的增長(zhǎng)速度在增加。因此在未來(lái)，潔凈市場(chǎng)的蛋糕是巨大的。

02、趨勢(shì)

競(jìng)爭(zhēng)方向轉(zhuǎn)變

由價(jià)格競(jìng)爭(zhēng)轉(zhuǎn)變?yōu)閮r(jià)值競(jìng)爭(zhēng)。隨著電子產(chǎn)品的集成化、密化、微型化、功能化等趨勢(shì)，對(duì)元器件的可靠性要求越來(lái)越高，電子信息制造業(yè)對(duì)潔凈室的要求標(biāo)準(zhǔn)也更加嚴(yán)格。微量的臟污或微弱的靜電都有可能造成元器件產(chǎn)品良品率的大幅降低，直接影響公司的效益。目前硬盤磁頭的靜電壓閾值已經(jīng)下降到3 V以內(nèi)，部分IC的封裝環(huán)境要求達(dá)到Class10，甚至Class1的水平。電子信息行業(yè)的技術(shù)發(fā)展和高性能要求促使?jié)崈艄こ绦袠I(yè)企業(yè)由價(jià)格競(jìng)爭(zhēng)轉(zhuǎn)向技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)，只有具備技術(shù)研發(fā)、自主創(chuàng)新能力的企業(yè)才能滿足客戶需求而持續(xù)發(fā)展，才能設(shè)計(jì)和建造符合要求的高端的潔凈室，相關(guān)技術(shù)和服務(wù)能力的提升將成為未來(lái)市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)的焦點(diǎn)。

節(jié)能化成為潔凈工程重要目標(biāo)

潔凈廠房是我國(guó)的耗能大戶之一，據(jù)不完全統(tǒng)計(jì)，潔凈室的能耗是一般寫字樓的10~30倍。我國(guó)的8英寸芯片廠，潔凈室單位面積能耗比美國(guó)同型工廠高15%。美國(guó)耗能1.28 kW/m2~1.63 kW/m2，而中國(guó)耗能1.48 kW/m2~1.93 kW/m2（資料來(lái)源：中國(guó)電子學(xué)會(huì)潔凈分會(huì)）。以上海某知名芯片廠為例，其全年耗電量51%是用于潔凈工程運(yùn)行及相關(guān)的維護(hù)，如果將51%的能耗合理降低，對(duì)企業(yè)來(lái)說(shuō)就意味著利潤(rùn)的增長(zhǎng)。因此，潔凈室下游相關(guān)行業(yè)企業(yè)越來(lái)越重視潔凈室的節(jié)能問(wèn)題。這就要求潔凈工程行業(yè)的設(shè)計(jì)和施工企業(yè)，從客戶需求出發(fā)，從設(shè)計(jì)理念、建造施工、設(shè)備配備及運(yùn)行等各個(gè)方面進(jìn)行節(jié)能設(shè)計(jì)，只有采取全方位的節(jié)能技術(shù)，整個(gè)潔凈工程行業(yè)才能持續(xù)、良性發(fā)展。

高端潔凈技術(shù)方向發(fā)展

空氣分子污染（Airborne Molecular Contaminants，AMC）作為IC工廠所關(guān)心的問(wèn)題于20年前最先由日本人提出，近年來(lái)，世界IC技術(shù)發(fā)展迅速，IC芯片日益微型化。AMC對(duì)當(dāng)前的IC生產(chǎn)其潛在的污染比粒子污染要廣泛多，粒子污染控制只需要確定粒徑及個(gè)數(shù)，但對(duì)AMC控制而言，除了受芯片線寬的縮小而變化外，并受工藝、工藝設(shè)備、工藝材料及傳送系統(tǒng)等的影響。更有甚者用于某一工序的各種工藝材料（化學(xué)品、特種氣體等）在很多情況下其微量的分子殘余對(duì)下一工序往往可能就是污染物。因此，IC生產(chǎn)過(guò)程中的某些加工工序及工序間的材料傳送和存放環(huán)境中，AMC已成為嚴(yán)重影響成品率的重要問(wèn)題，AMC分子控制技術(shù)成為潔凈工程設(shè)計(jì)與施工建設(shè)的主流趨勢(shì)。目前，國(guó)內(nèi)的潔凈工程企業(yè)中已經(jīng)開(kāi)始從事此方向的研究，在該領(lǐng)域比較領(lǐng)先的企業(yè)有亞翔集成，在分子凈化技術(shù)方面該公司已經(jīng)走在了同行業(yè)的前列，而中國(guó)電子工程設(shè)計(jì)院則在防微震方面技術(shù)領(lǐng)先。

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